真空鍍膜電源廠家簡述離子鍍的原理

2020-08-25 00:00:00

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離子鍍（dù）種（zhǒng）類很多，蒸發遠加熱方式有電阻加（jiā）熱、電子束加熱、等離子電子（zǐ）束加熱、高頻感應加熱等。

真空鍍膜電源廠家

離子鍍是真空室中，利用氣體（tǐ）放（fàng）電或（huò）被蒸發（fā）物質部分離化，在氣（qì）體離子或被蒸（zhēng）發物質粒子轟擊作用（yòng）的同時（shí），將蒸發物或反應物沉（chén）積在基片（piàn）上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明（míng）顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用範圍。多弧電源其（qí）優點是薄膜附著力強，繞射性（xìng）好，膜材廣泛等。真空鍍膜電源廠家首次提出離子鍍（dù）原理，起工作過程是：

先將真空（kōng）室抽至4×10（-3）帕（pà）以上的真空度，再接（jiē）通 高（gāo）壓電源，在蒸發源與基片之間（jiān）建立一個低壓氣體放電的低溫等離子區。基片電（diàn）極接（jiē）上5KV直流負高壓，從而形成輝光放電陰極。輝光放電去產（chǎn）生的（de）惰性（xìng）氣體離子進入陰極暗區被電場加速並轟擊基片表麵，對其進行清洗。然後計入（rù）鍍膜過程，加（jiā）熱使（shǐ）鍍料氣化，起原子進入等離子區，與惰性氣體離子及電子發生碰撞，少部分（fèn）產生離化。離化後的例子及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表麵，致使膜層質量得到（dào）改（gǎi）善（shàn）。

然而多弧離子鍍與一般的離子鍍（dù）有（yǒu）著很大的區（qū）別。多弧離子鍍采用的（de）是弧光放電，而並不是傳統離子鍍的（de）輝（huī）光放電進行沉積。簡單（dān）的（de）說，多弧離子鍍的（de）原（yuán）理就是把陰極靶作為蒸發源，通過靶與陽（yáng）極（jí）殼體之間的弧光放電，使靶（bǎ）材蒸發，從而在空間中形成等離子體，對基體進行沉（chén）積。