脈衝磁控濺射是一種用矩（jǔ）形波電壓（yā）脈衝電源代替傳統直流電源的（de）方（fāng）法。脈衝濺射可以有效抑製電弧的產（chǎn）生，消除由此產生的薄膜缺陷，同時可以提高濺（jiàn）射（shè）的（de）沉積速率，降低沉積溫度等一係列顯（xiǎn）著優點，是濺射絕緣材料沉積的工藝。脈衝磁控濺射的工（gōng）作原理一個周（zhōu）期有正電壓

說（shuō）起單極脈衝磁控濺射電源，可能有點困惑，但我（wǒ）想說的是，它是（shì）對直流磁控濺射（shè）電源的升級，是不是（shì）突然明白了？脈衝磁控濺（jiàn）射是用矩形波電壓脈衝電源代替傳統直（zhí）流電源的一種方法。脈（mò）衝濺射可以有效地抑製電弧的產生，消除（chú）由此（cǐ）產生的薄膜缺陷，同時（shí）可以提高濺射的