脈衝（chōng）磁控濺射電源的功能和工作原（yuán）理

脈衝磁控（kòng）濺射是一種用矩形波電壓脈衝電源代替（tì）傳統直流電源的（de）方法。脈衝濺射可以有效抑製電（diàn）弧的產生，消除由此產生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射的沉積速（sù）率（lǜ），降低沉積溫度等一（yī）係列顯著優點，是濺射絕緣材（cái）料沉積的工藝。

脈（mò）衝磁控濺（jiàn）射的工作原理

一個周期有正電壓和負電壓兩個階段，在負電壓段，電源對靶材的濺射起作用，正電（diàn）壓段引（yǐn）入電子和（hé）靶材表麵積累的正電荷，使（shǐ）表麵清潔，露出（chū）金屬表麵。

施加在靶材（cái）上的脈衝電壓與普通磁控濺射相同！對於400~500V，電源頻率（lǜ）在10~350KHz，在保證放電穩定（dìng）的前提下，應盡可能取低的頻率#因為等離（lí）子體中的電子相對於離子具有較高的遷移率，所以正電壓值隻需要負電壓的10%-20%，就可以有效地中（zhōng）和積累在靶表麵上的正電荷。占（zhàn）空比的選擇確（què）保（bǎo）了濺射過程中靶表麵上的累積電荷可（kě）以（yǐ）在正（zhèng）電壓（yā）階（jiē）段完全中和，從而盡可能提高占空比，實現電源的大效率。