HVP高壓（yā）窄脈衝電源

主要（yào）型號：

主要特點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降特性，
有效抑製工件表麵（miàn）打火，明顯提高鍍件的成品率、表麵光潔度和膜（mó）層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可（kě）達（dá）3500V。
   C 頻（pín）率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先（xiān）進的PWM脈寬調製技（jì）術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率（lǜ）開關器件，
體積小、重量輕（qīng）、功能全、性（xìng）能穩定可（kě）靠（kào），生產工藝嚴格完善（shàn）。
該係列產（chǎn）品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜（mó）工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了（le）靶麵清洗工藝的穩定（dìng）性，又（yòu）提高了靶麵清（qīng）洗速度；
主（zhǔ）要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方（fāng）便實（shí）現自動化控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍（dù）膜工藝時被鍍工件表麵（miàn）的輝光（guāng）清洗、鍍膜前的離子轟擊和鍍膜時的離子加速等。

社會不斷發展，技術也是不斷得在創新（xīn）。真空鍍（dù）膜電（diàn）源的運用範圍是越來（lái）越（yuè）廣泛了，真空鍍膜技術是一（yī）種新穎的材料合成與加工的新技術，是表（biǎo）麵工程技術領域的重要組成部分（fèn）。隨著全球製造業高速發（fā）展，真（zhēn）空鍍膜（mó）技術應用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太（tài）陽能光伏、化工、製藥等行業的（de）發展來看，對真空鍍膜設備、技術材料需求都（dōu）在不斷增加，包括製造大規模集成電路的電學膜；數字式縱向與（yǔ）橫向均可磁化的數據記錄（lù）儲存膜；充分展示和應用各種光學特（tè）性的光學膜；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜（mó）和增透膜；建築、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領域用防護膜（mó）、阻（zǔ）隔膜；裝飾材料上具體各種（zhǒng）功能裝飾效果的（de）功能膜；工、模具表麵（miàn）上應用的耐磨超硬膜；納米材料研究方麵（miàn）的各種功能（néng）性薄膜等。對於國內真空鍍膜設備製造企業發展建議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，複蘇（sū）充滿不確定性，經濟處於繼續（xù）探底過程，真空（kōng）鍍膜設備製造企業應著力進行產（chǎn）業結構優化升級，重質量、重服務明確市（shì）場定位，大力研發擁有自主知識產權的（de）新產品新工藝（yì），提（tí）高（gāo）產品（pǐn）質（zhì）量和服務水平。

2、依托信息化發展趨勢，堅持“以信息化帶動工業化，以工業化促進信息化（huà）”，走（zǒu）出一條科技含量高（gāo）、經濟效益好、資源消耗低、環境汙染少、人力（lì）資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持（chí），大力加強與擁有（yǒu）行業先進技術和工藝水平（píng）的科研（yán）院（yuàn）所、大型（xíng）企業、高校合作，使得（dé）新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術及設（shè）備擁有十（shí）分（fèn）廣闊的應用領域和發展前（qián）景。未來真空鍍（dù）膜設備行業等製造業將以信（xìn）息化融合為重心，依靠技術進步，更加注重技術能力積累，製造偏向服務（wù）型，向（xiàng）世（shì）界真空鍍膜設備行業等製造業價值鏈高端挺進。