真空（kōng）鍍（dù）膜應用的（de）主要方法

真空鍍（dù）膜應用，簡單來說就是（shì）指在真空環境下，利用蒸發、濺射以及後續的冷凝等方法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體、塑料件等物體上沉積金屬薄膜或塗層。真空鍍膜應用與傳統鍍膜方法（fǎ）相比，屬於幹式鍍（dù）膜方法，其主（zhǔ）要方（fāng）法有以下幾種:

真空蒸發鍍膜

原理是用蒸發器在真空條件下（xià）加熱蒸發的物質，使（shǐ）其蒸發或升華。蒸發的離子流直接指向襯底，在襯底上沉積固體薄膜。

濺射沉積

濺射鍍膜是在真空條件下，對陰極施加2000V的高壓（yā）激發輝光放（fàng）電的過程。帶正電的氬離子與陰極碰撞，使其釋放出原子，這些原子隨後在惰性氣氛中沉積在襯底上（shàng），形成一層薄膜。

離子塗層

幹式螺（luó）杆泵生產廠家已經推出了真空離子鍍膜。它是在上述兩種真空鍍膜技術的基礎上，結合了（le）兩者的工藝特點而發展起來的。在真空條件下，用氣體放電使工作氣體或蒸發物（wù）質(膜材料)部分電（diàn）離，在離子轟擊（jī）下，蒸發物質（zhì）或其反應物沉積在（zài）襯底表（biǎo）麵。在膜的形成過程中，基底總（zǒng）是受到高能粒子的轟擊，使其非常幹淨。

真空繞（rào）組（zǔ）鍍（dù）膜

真空纏繞鍍膜是一種利用物理氣相（xiàng）沉積對（duì）柔性基材進行連續鍍（dù）膜的技術，以達到柔（róu）性基材的某些功能和裝飾性能。