真空鍍膜和光學（xué）鍍膜差（chà）異

一、概念差異

1.真空鍍（dù）膜（mó）是指在高真（zhēn）空條件下加熱金屬或非金屬材（cái）料，使其在被鍍物體(金屬、半導體（tǐ）或絕緣體（tǐ）)表麵蒸發凝結形成薄膜的一種方法。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2. 光學（xué）鍍膜是指在光學元件表（biǎo）麵塗（tú）覆一層(或多層)金屬(或介電)薄膜的工藝。在光學（xué）元件表麵塗膜的目的是為了減少或增加光的反（fǎn）射、分束、分色、過濾、偏振等要求（qiú）。常用（yòng）的包覆方法有真空包覆(物理包覆的一種)和化學包覆。

二、原則差異

1. 真空鍍膜是真空應用的一（yī）個重（chóng）要方麵（miàn），它以真空技術為（wéi）基礎，利用物理或（huò）化學方法，吸收了電子束、分子（zǐ）束、離子束、等離子體束、射頻、磁控管等（děng）一係列新技術，為科學研究和實際生產提供了薄膜製備的（de）新工藝。簡（jiǎn）單地說，就是在真空中蒸發或濺射金屬、合金或化合物，使其凝固並沉（chén）積在（zài）塗層物體(稱為基材、襯（chèn）底或襯底)上的方法。

2. 光的幹涉在薄（báo）膜（mó）光學中有著廣泛的（de）應用。光學薄膜技術常用的方法是利用真空（kōng）濺射在（zài）玻璃基板（bǎn）上塗覆薄膜，一般用來控製基板（bǎn）對入射光束（shù）的反射率和透射（shè）率，以滿（mǎn）足不同的（de）需要。為了消（xiāo）除光學元件表麵的反射損耗，提高（gāo）成像質量，在表麵塗覆一層或多（duō）層（céng）透明的介電膜，稱為防反射膜或防反射膜。

隨著激（jī）光技術的（de）發展，對膜層的反射率和透射率有了不同的要求（qiú），促進（jìn）了（le）多層高反射膜（mó）和寬帶增透膜的發展。為滿足各種應用的需要，采用高反射（shè）膜製造偏光反射膜、彩色光譜膜、冷光膜、幹涉濾光片等。光學元件表麵塗覆後，光在膜層上多（duō）次反射和透射，形（xíng）成多（duō）束幹涉。通過控（kòng）製膜層的折射率和厚度，可以（yǐ）得到不同的光強分布，這是幹涉鍍膜的基本（běn）原理。

三、方法和材料（liào）的差異

1. 材料采用真空鍍膜法:

(1)真空蒸發鍍膜:對待鍍膜基材進行（háng）清（qīng）洗後（hòu），置（zhì）於（yú）鍍膜室（shì）內，將其抽離，並將膜材加熱至高溫，使蒸汽達到13.3Pa左右，蒸汽分子飛向基材表麵，凝結成薄膜（mó）。

(2)陰極濺射鍍:將待鍍基材置於陰（yīn）極對麵，將惰性氣體(如氬氣)引入真（zhēn）空（kōng）室（shì），保持壓力約1.33-13.3Pa，然後將陰（yīn）極接（jiē）2000V直流電源激發輝光放電。帶正電的氬離子與陰（yīn）極碰撞，使陰（yīn）極射出原子。濺落的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上，形成薄膜。

(3)化學氣相沉積:通過對選定的金屬或有機化合物進行（háng）熱分解得到沉積薄膜的過程。

(4)離子鍍:離子鍍本質上是真空蒸發和陰極濺射的有機結合，結合了兩者的工藝特點（diǎn）。各（gè）種塗裝方式的優缺點如表6-9所示。

2. 光（guāng）學鍍（dù）膜方法材料

(1)氟化鎂:一種純度高的（de）無色四方結晶粉末。用它來製作光學鍍膜可以提高透光率，防止坍塌點。

(2)二氧化矽:無色透明晶（jīng）體，熔點高，硬度高，化學穩定性好。純度高，用它製（zhì）備（bèi）高質量的SiO2塗層，蒸發狀態好，無（wú）坍（tān）塌點。根據使用要求分為紫外線、紅外線和可見光。

(3)氧化（huà）鋯:白（bái）色重晶（jīng）態，高折射率，耐（nài）高溫。化學性質穩定，純度（dù）高。可用於（yú）製備無（wú）斷裂點的高質量氧化鋯（gào）塗層（céng）。